Thirumalai Venky 文卡特斯是脉冲激光沉积工艺的发明者,是将其应用于复杂氧化物薄膜和相关多组分材料的先驱,这改变了全球薄膜/异质结构的皇冠体育研究。从高温铜超导体的高质量薄膜开始,他将其用于磁阻锰铁、铁电体、稀磁性氧化物、氧化物光催化剂、生物活性衬底和可与硅电子集成的多铁异质结构。最近,他的工作扩展到超低能量记忆和基于有机分子系统的类脑电子学。
ORCID Id: 0000000196834584
Thirumalai Venky 文卡特斯是脉冲激光沉积工艺的发明者,是将其应用于复杂氧化物薄膜和相关多组分材料的先驱,这改变了全球薄膜/异质结构的皇冠体育研究。从高温铜超导体的高质量薄膜开始,他将其用于磁阻锰铁、铁电体、稀磁性氧化物、氧化物光催化剂、生物活性衬底和可与硅电子集成的多铁异质结构。最近,他的工作扩展到超低能量记忆和基于有机分子系统的类脑电子学。
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近期刊物
Sreetosh Goswami*, Rajib Pramanick, Abhijeet Patra, Santi Prasad Rath, Ariando, Damien Thomson, T. 文卡特斯*, Sreebrata Goswami*, R Stanley Williams*, Decision Trees within a Molecular Memristor Nature, 2012.12.3
Hariom Jani, Linghu Jiajun, Sonu Hooda, Rajesh V. Chopdekar,李长健,Ganesh Ji Omar, Saurav Prakash,杜永华,杨平,Agnieszka Banas, Krzysztof Banas, Siddhartha Ghosh, Sunil Ojha, G. R. Umapathy, Dinakar Kanjilal, A Ariando, Stephen J. Pennycook, Elke Arenholz, Paolo G. Radaelli, J. M. D. Coey,冯袁平,T. 文卡特斯,室温下α-Fe2O3反铁磁态的可逆氢离子控制,自然科学学报,12 (2021)
Hariom Jani,林正元,陈家豪,Jack Harrison, Francesco Maccherozzi, John Schad, Saurav Prakash, Chang-Beom Eom, Ariando, T. 文卡特斯, Paolo G. Radaelli,室温下反铁磁绝缘体的拓扑半空子和双空子,自然科学,59,74 (2021)
赵晓旭,宋鹏,王成才,Anders C Riis-Jensen,付伟,邓亚,万东阳,康立兴,宁寿聪,丹家栋,T 文卡特斯,刘铮,周武,Kristian S Thygesen,罗欣,Stephen J Pennycook, lokian Ping,自插层共价键合二维层状材料的工程皇冠体育研究,自然科学,581,171 (2020)
Sreetosh Goswami, Santi P. Rath, Damien Thompson, Svante Hedström, Meenakshi Annamalai, Rajib Pramanick, B. Robert Ilic, Soumya Sarkar, Christian A. Nijhuis, Jens Martin, Sreebrata Goswami, T. 文卡特斯,基于电荷不成比例分子氧化还原的三相电阻式记忆器件,Nature Nanotechnology(2020年4月3日)。